A new  is launched that Canon wafer measuring machine


Regenerative Times Report/Canon lanzará la máquina medidora de obleas "MS-001" para la fabricación de semiconductores el 21 de febrero de 2023, que podrá realizar mediciones de alineación de alta precisión en la oblea.

En los campos de vanguardia de los semiconductores como la lógica y la memoria, el proceso de fabricación se vuelve cada vez más complejo y la oblea es más propensa a deformaciones y deformaciones. Para fabricar componentes semiconductores de alta precisión, es necesario medir con precisión la deformación de la oblea y utilizar varios equipos de litografía semiconductora para realizar litografías de alta precisión de hasta varias capas de diagramas de circuito, y luego realizar la exposición. Para lograr una litografía de alta precisión, el número de marcas de alineación utilizadas para posicionarse en la superficie de la oblea ha aumentado de varias a cientos. Por esta razón, es muy laborioso medir la alineación de cientos de marcas de alineación en cada equipo de litografía de semiconductores, lo que reduce la eficiencia de producción de los equipos de litografía de semiconductores. Con la aplicación de nuevos productos, la mayoría de las mediciones de alineación pueden completarse de forma uniforme antes de que las obleas sean transportadas al equipo de litografía de semiconductores, reduciendo la carga de trabajo de las operaciones de medición de alineación en el equipo de litografía de semiconductores, mejorando así la eficiencia de producción del equipo de litografía de semiconductores.


01 Con la ayuda de la nueva fuente de luz del sensor de área y el osciloscopio de calibración, se puede realizar la medición de alta precisión de la marca de alineación

El osciloscopio de calibración que lleva el nuevo producto "MS-001" está equipado con un sensor de área, que puede realizar mediciones de varios píxeles y reducir el ruido durante la medición. Además, "MS-001" también puede medir muchos tipos de marcas de alineación. Utilizando la recién desarrollada fuente de luz osciloscópico de calibración, el nuevo producto puede proporcionar un rango de longitudes de onda 1,5 veces mayor que el medido en equipos de litografía de semiconductores, y puede alinearse y medirse a cualquier longitud de onda requerida por los usuarios. Por lo tanto, la precisión de medición de alineación lograda por "MS-001" es mayor que la medida en equipos de litografía de semiconductores.

02 Corrección predictiva de exposición usando "Lithography Plus"

Con la introducción de la plataforma de soluciones "Lithography Plus" (lanzada en septiembre de 2022), la información relevante sobre el funcionamiento de la máquina de litografía de semiconductores y "MS-001" puede concentrarse en "Lithography Plus". Comparando y monitorizando los datos de medición obtenidos por "MS-001" en el proceso de fabricación de dispositivos semiconductores con la información recogida por "Lithography Plus", podemos detectar el cambio en la información de alineación de la superficie de las obleas y corregirlo automáticamente en la máquina de litografía de semiconductores. De este modo, podemos realizar una gestión centralizada desde la medición de la alineación hasta el proceso de exposición, y contribuir a la reducción del COO